單項(xiàng)選擇題

芯片鍍膜生產(chǎn)車間每小時(shí)抽5片芯片測量其鍍膜的厚度,共檢測了48小時(shí),獲得240個(gè)數(shù)據(jù)。經(jīng)趨勢圖分析發(fā)現(xiàn),各小時(shí)5片鍍膜厚度之均值大體是穩(wěn)定的,數(shù)據(jù)也服從正態(tài)分布。但發(fā)現(xiàn)各小時(shí)內(nèi)的差異較小,但各小時(shí)間差異較大。六西格瑪團(tuán)隊(duì)對如何進(jìn)行SPC(統(tǒng)計(jì)過程分析)發(fā)生了分歧。正確的意見是:()

A.變異來源不僅包含隨機(jī)誤差。此時(shí),必須等待清除組間變異變大的情況后,才能使用SPC
B.其實(shí)只要將每小時(shí)芯片鍍膜厚度之均值求出,對48個(gè)數(shù)據(jù)繪制單值一移動(dòng)極差(X一MR)控制圖即可
C.求出各小時(shí)芯片鍍膜厚度之均值,對之繪制單值一移動(dòng)極差(X一八妞)控制圖外,再繪制各小時(shí)的極差(R)控制圖,三張控制圖同時(shí)使用即可控制過程
D.解決此類問題的最好方法是使用EWMA控制圖

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